APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE

According to an embodiment of the present invention, a substrate processing device comprises: a chamber for transferring a substrate through a passage formed on one side thereof, the chamber providing an internal space, in which processes related to the substrate are conducted, and the chamber having a supply port formed on the opposite side to the passage so as to supply gas towards the substrate; an auxiliary susceptor, which is installed in the internal space, which has a shape corresponding to that of the internal space, and which has an opening formed therein; and a main susceptor, which is inserted/installed in the opening, which can rotate while the substrate is placed thereon, and which heats the substrate. 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리장치는, 일측에 형성된 통로를 통해 기판이 이송되며, 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하는, 그리고 상기 기판을 향해 가스를 공급하는 공급포트가 상기 통로의 반대측에 형성된 챔버; 상기 내부공간에 설치되어 상기 내부공간과 대응되는 형상을 가지며, 개구가 형성되는 보조서셉터; 및 상기 개구에 삽입설치되어 상기 기판이 놓여진 상태에서 회전가능하며, 상기 기판을 가열하는 메인서셉터를 포함한다.