APPARATUS AND METHOD FOR TUNING A PLASMA PROFILE USING A TUNING ELECTRODE IN A PROCESSING CHAMBER

본 발명의 실시예들은, 기판의 플라즈마 프로세싱 동안, 플라즈마 프로파일을 개선하고 증착 레이트를 강화하기 위한 장치에 관한 것이다. 실시예들에 따르면, 장치는, 기판 지지 페데스탈에 배치되고 가변 캐패시터에 전기적으로 커플링된 튜닝 전극을 포함한다. 튜닝 전극에 대한 RF 및 결과적인 플라즈마 커플링을 제어하기 위해 커패시턴스가 제어된다. 튜닝 전극에서의 커패시턴스 및 임피던스를 조정하는 것에 의해, 기판에 걸친 플라즈마 프로파일 및 결과적인 증착 레이트 및 증착된 필름 두께가 상응하여 제어된다. Embodiments of the...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	CHEN JIAN J, AYOUB MOHAMAD A, BANSAL AMIT KUMAR
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY
Online-Zugang:	Volltext bestellen
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