METHOD FOR ACCURATELY DETERMINING THE THICKNESS AND/OR ELEMENTAL COMPOSITION OF SMALL FEATURES ON THIN-SUBSTRATES USING MICRO-XRF

An XRF analysis method includes a step of orienting an x-ray beam to a specimen and measuring an XRF signal excited from a specimen to generate a reference XRF spectrum and a target XRF spectrum, in reference measurement including one or more first layers wherein the specimen is formed on a base material, and target measurement after at least one second layer is added to the first layer and formed on the base material. The level of contribution of the first layer to the target XRF spectrum is reduced by using the reference XRF spectrum. At least one parameter of the two layers is estimated by using the target XRF spectrum in which the level of contribution of the first layer is reduced. 엑스선 형광(XRF) 분석 방법은 시료가 기재 위에 형성된 하나 이상의 제1 층을 포함하는 기준 측정 및 하나 이상의 제2 층이 상기 제1 층에 더하여 상기 기재 위에 형성된 후의 타겟 측정에서, 엑스선 빔을 상기 시료로 지향시키고 상기 시료로부터 여기된 XRF 신호를 측정하여, 기준 XRF 스펙트럼 및 타겟 XRF 스펙트럼을 생성하는 단계를 포함한다. 상기 타겟 XRF 스펙트럼에 대한 제1 층의 기여도는 상기 기준 XRF 스펙트럼을 사용하여 감소된다. 적어도 상기 제2 층중 하나의 파라미터는 상기 제1 층의 기여도가 감소된 타겟 XRF 스펙트럼을 사용하여 추정된다.