METHOD OF FORMING A LAYERED SUBSTRATE COMPRISING A SELF-ASSEMBLED MATERIAL USING A PHOTO-DECOMPOSABLE AGENT

자기 조립 물질을 포함하는 층상 기판의 형성 방법(100)이 제공된다. 상기 방법(100)은 기판 위에 제1 물질 층을 형성하는 단계(110), 제1 물질 층 위에 방사선 감응성 물질 층을 형성하는 단계(120), 방사선 감응성 물질 층을 패턴화 광으로 이미지화하는 단계(130), 방사선 감응성 물질 층(130)을 가교 반응 온도 이상의 온도로 가열하는 단계(140), 이미지화 층을 현상하는 단계(150), 및 블록 공중합체 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 방사선 감응성 물질은 (a) 광분해성 가교제, (b) 광염기 발생제, 또는...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SOMERVELL MARK H, CARCASI MICHAEL A
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MATERIALS THEREFOR MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES NANOTECHNOLOGY ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TRANSPORTING
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	자기 조립 물질을 포함하는 층상 기판의 형성 방법(100)이 제공된다. 상기 방법(100)은 기판 위에 제1 물질 층을 형성하는 단계(110), 제1 물질 층 위에 방사선 감응성 물질 층을 형성하는 단계(120), 방사선 감응성 물질 층을 패턴화 광으로 이미지화하는 단계(130), 방사선 감응성 물질 층(130)을 가교 반응 온도 이상의 온도로 가열하는 단계(140), 이미지화 층을 현상하는 단계(150), 및 블록 공중합체 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 방사선 감응성 물질은 (a) 광분해성 가교제, (b) 광염기 발생제, 또는 (c) 광분해성 염기로부터 선택되는 하나 이상의 감광성 성분; 및 가교성 중합체를 포함하며, 여기서 패턴화 광에 의한 이미지화 단계에서는 비손상 감광성 성분의 실질적인 부분을 갖는 영역에 의해 둘러싸인 분해된 감광성 성분의 실질적인 부분을 갖는 제1 영역에 의해 한정되는 패턴을 제공한다.