APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE

Provided is a substrate processing device which can process a large substrate in a substrate processing device for cleaning and drying a semiconductor substrate having a pattern. A semiconductor substrate processing device comprises: a chamber which stores a substrate, and performs a cleaning process and a drying process of the substrate; a spin chuck which is installed inside the chamber, and gripping the substrate to be rotated; a spraying unit which is installed on an upper part of the substrate gripped by the spin chuck, and provides fluid including a cleaner and a drier to the substrate; and an air supplying unit which is installed on an upper part of the chamber to provide clean air for forming a processing atmosphere inside the chamber, and provides the substrate by heating the substrate at a certain temperature or higher. 패턴이 형성된 반도체 기판을 세정 및 건조하는 기판 처리 장치에서 대형 기판의 처리가 가능한 기판 처리 장치를 제공한다. 반도체 기판의 처리 장치는, 기판을 수용하여 기판의 세정 공정 및 건조 공정이 수행되는 챔버, 상기 챔버 내부에 구비되어 상기 기판을 파지하여 회전하는 스핀척, 상기 스핀척에 파지된 상기 기판의 상부에 구비되고, 상기 기판에 세정제와 건조제를 포함하는 유체를 제공하는 분사부 및 상기 챔버 상부에 구비되어서 상기 챔버 내부에 공정 분위기를 형성하도록 청정 공기를 제공하고 상기 기판의 온도를 일정 온도 이상으로 가열하여 제공하는 공기 공급부를 포함하여 구성된다.