APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE

Provided is a substrate cleaning device which can prevent a pattern leaning phenomenon in a substrate cleaning device for cleaning and drying a semiconductor substrate having a pattern. The semiconductor substrate cleaning device comprises: a spin chuck for supporting a substrate, and rotating; a chamber for storing the spin chuck, and collecting a cleaner shattered on the rotating substrate; a spraying unit installed at an upper part of the spin chuck to provide the cleaner and an IPA; and a back side nozzle unit installed on the spin chuck to provide fluid for heating the back side of the substrate while the IPA to is provided the substrate by the spraying unit. 패턴이 형성된 반도체 기판을 세정 및 건조하는 기판 세정장치에서 패턴 쓰러짐(pattern leaning) 현상을 방지할 수 있는 기판 세정장치를 제공한다. 반도체 기판의 세정장치는, 기판을 지지하고 회전하는 스핀척, 상기 스핀척을 수용하고, 회전하는 기판에서 비산하는 세정제를 회수하는 챔버, 상기 스핀척 상부에 구비되어 상기 기판에 세정제와 IPA를 제공하는 분사부 및 상기 스핀척 상에 구비되어서, 상기 분사부에서 상기 기판에 IPA를 제공하는 동안, 상기 기판 이면을 가열하기 위해서 유체를 제공하는 이면 노즐부를 포함하여 구성된다.