COMPOSITIONS OF LOW-K DIELECTRIC SOLS CONTAINING NONMETALLIC CATALYSTS

본 발명은 다공성의 저-κ 유전 물질을 생산하기 위한 졸 조성물을 제공한다. 당해 조성물은 적어도 하나의 실리케이트 에스테르, 극성 용매, 물, 실리케이트 에스테르 가수분해용 산 촉매, 양친매성 블록 공중합체 표면활성제, 및 생산된 물질 속에서 유전 상수를 감소시키는 비금속성 촉매를 포함할 수 있다. 당해 조성물은 비금속성 촉매보다 더 낮은 백만부 농도의 금속 이온을 포함하고/하거나 당해 조성물은 공용매를 추가로 포함할 수 있다. 졸 조성물을 사용하여 기판 위에 박막을 제조하는 방법이 또한 제공된다....

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SAVAGE TRAVIS, PHILLIPS MARK L.F
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ADHESIVES AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS CHEMISTRY COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS COMPOSITIONS BASED THEREON CORRECTING FLUIDS DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY FILLING PASTES GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING INKS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PAINTS PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING POLISHES SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF MATERIALS THEREFOR WOODSTAINS WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 다공성의 저-κ 유전 물질을 생산하기 위한 졸 조성물을 제공한다. 당해 조성물은 적어도 하나의 실리케이트 에스테르, 극성 용매, 물, 실리케이트 에스테르 가수분해용 산 촉매, 양친매성 블록 공중합체 표면활성제, 및 생산된 물질 속에서 유전 상수를 감소시키는 비금속성 촉매를 포함할 수 있다. 당해 조성물은 비금속성 촉매보다 더 낮은 백만부 농도의 금속 이온을 포함하고/하거나 당해 조성물은 공용매를 추가로 포함할 수 있다. 졸 조성물을 사용하여 기판 위에 박막을 제조하는 방법이 또한 제공된다.