PROCESS KIT FOR PROTECTING HEATER AND CHAMBER CLEANING METHOD THEREOF

The present invention relates to a process kit for protecting a heater, and a chamber cleaning method using the same. The process kit uses a body unit enclosing the heater, a substrate support kit having a substrate loading protrusion for loading a substrate, and a shutter wafer loaded on the substrate support kit to separate the heater from the internal space of the chamber. And the present invention provides the shutter wafer to the chamber and loads the shutter wafer on the substrate support kit to separate the heater from a cleansing space of the chamber; supplies N_2 gas between the substrate support kit and the heater to prevent cleansing gas from touching the heater; and supplies the cleansing gas having a first gas concentration and cleans the upper surface of the substrate support kit and the inside of the chamber with first power during the first cleansing time. The substrate support kit and the shutter wafer can prevent the cleansing gas from etching the heater when cleansing particles inside the chamber after the completion of the process inside the process chamber, which makes it possible to clean the chamber as preventing the heater inside the chamber form being damaged. 본 발명은 히터 보호용 프로세스 키트 및 이를 이용한 챔버 세정방법으로서, 히터를 둘러싸는 본체부와, 기판을 안착시키는 기판안착턱을 갖는 기판지지 키트와, 상기 기판지지 키트에 안착되어 상기 히터를 상기 챔버의 내부공간과 분리시키는 셔터 웨이퍼를 이용하여, 상기 챔버에 상기 셔터 웨이퍼를 공급하여 상기 기판지지키트에 안착시켜서 상기 히터와 상기 챔버의 세정공간을 분리하고, 상기 기판지지키트와 상기 히터 사이에 N가스를 공급하여 상기 세정가스가 상기 히터에 맞닿는 것을 차단한 후, 제 1 가스농도를 가지는 세정가스를 공급하고 제 1 파워로 제 1 세정시간동안 상기 지판지지키트의 상부면과 상기 챔버내부를 세정하여, 공정 챔버내에서 공정 완료후 챔버 내의 파티클을 세정할 때에 상기 기판지지키트 및 상기 셔터 웨이퍼에 의해 세정가스가 상기 히터를 식각하는 것을 방지할 수 있으므로, 챔버 내의 히터가 손상되지 않도록 보호하면서 챔버를 세정하는 것이 가능하다.