SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING PULSE WITH LINEAR SLOPE
The present invention relates to an apparatus and a method for generating pulses for plasma applied to a semiconductor or a display process and, more specifically, to a system and a method for generating pulse power having a linear slope to supply even energy to ions in a plasma state. 본 발명은 반도체 또는...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to an apparatus and a method for generating pulses for plasma applied to a semiconductor or a display process and, more specifically, to a system and a method for generating pulse power having a linear slope to supply even energy to ions in a plasma state.
본 발명은 반도체 또는 디스플레이 공정에 적용되는 플라즈마용 펄스 생성 장치 및 그 생성 방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 플라즈마 상태 내의 이온에 균일한 에너지를 공급하기 위하여 선형 기울기를 가지는 펄스 전원을 생성하는 장치 및 방법에 관한 것이다. |
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