SUBSTRATE TREATMENT METHOD, COMPUTER STORAGE MEDIUM, AND SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM

본 발명은, 제1 폴리머와 제2 폴리머를 포함하는 블록 공중합체를 이용하여 기판을 처리하는 방법으로서, 블록 공중합체를, 기판 상 또는 기판 상에 도포된 하지막 상에 도포하는 블록 공중합체 도포 공정과, 기판 상의 블록 공중합체를 비산화성 가스 분위기에서 열처리하여, 블록 공중합체를 제1 폴리머와 제2 폴리머로 상 분리시키는 폴리머 분리 공정을 포함한다. The present invention is a method of treating a substrate using a block copolymer containing a first...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MURAMATSU MAKOTO, TOMITA TADATOSHI, YANO KAZUTOSHI, TANOUCHI KEIJI, SHIGETOMI KENICHI, TOYOZAWA AKIHIRO, KITANO TAKAHIRO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PERFORMING OPERATIONS PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은, 제1 폴리머와 제2 폴리머를 포함하는 블록 공중합체를 이용하여 기판을 처리하는 방법으로서, 블록 공중합체를, 기판 상 또는 기판 상에 도포된 하지막 상에 도포하는 블록 공중합체 도포 공정과, 기판 상의 블록 공중합체를 비산화성 가스 분위기에서 열처리하여, 블록 공중합체를 제1 폴리머와 제2 폴리머로 상 분리시키는 폴리머 분리 공정을 포함한다. The present invention is a method of treating a substrate using a block copolymer containing a first polymer and a second polymer, the method including: a block copolymer coating step of applying the block copolymer onto a substrate or a base film applied on the substrate; and a polymer separation step of phase-separating the block copolymer into the first polymer and the second polymer by thermally treating the block copolymer on the substrate in a non-oxidizing gas atmosphere.