CHUCK TABLE APPARATUS

A chuck table apparatus is disclosed. According to the present invention, the chuck table apparatus comprises: a rotary table where a wafer is loaded; a rotary member disposed on the rotary table and disposed to be concentric with the center of rotation of the rotary table; a drive unit coupled to the rotary member and rotating the rotary member; a plurality of link units hinged to the rotary table and hinged to the rotary member; a moving rod coupled to each link unit and moved by the link unit; a guide unit fixated to the rotary table and where the moving rod is coupled to be moved; and a chuck fin coupled to the moving rod and moved to a waiting position or a supporting position supporting a circumferential part of the wafer in accordance with the moving rod moves. 척테이블 장치에 대한 발명이 개시된다. 본 발명의 척테이블 장치는: 웨이퍼가 로딩되는 회전 테이블; 회전 테이블에 배치되고, 회전 테이블의 회전 중심과 동심을 이루도록 배치되는 회전 부재; 회전 부재에 결합되어 회전 부재를 회전시키는 구동부; 회전 테이블에 힌지 결합되고, 회전 부재에 힌지 결합되는 복수의 링크부; 각 링크부에 결합되어 링크부에 의해 이동되는 이동 로드; 회전 테이블에 고정되고, 이동 로드가 이동 가능하게 결합되는 가이드부; 및 이동 로드에 결합되고, 이동 로드가 이동됨에 따라 웨이퍼의 둘레부를 지지하는 지지 위치 또는 대기 위치로 이동되는 척핀을 포함하는 것을 특징으로 한다.