PATTERN INSPECTING AND MEASURING DEVICE AND PROGRAM

검사 또는 계측 대상의 패턴을 촬상해서 얻어진 화상 데이터로부터 추출한 에지의 위치를 사용한 검사 또는 계측에 있어서, 노이즈 등의 영향을 저감해서 검사 또는 계측 결과의 신뢰성을 향상시키는 패턴 검사·계측 장치를 제공한다. 이 를 위해서, 검사 또는 계측 대상 패턴을 촬상해서 얻어진 화상 데이터로부터 에지 추출 파라미터를 사용해서 추출한 에지의 위치를 사용하여 검사 또는 계측 대상 패턴의 검사 또는 계측을 행하는 패턴 검사·계측 장치에 있어서, 검사 또는 계측의 기준이 되는 형상을 나타내는 기준 패턴과 상기 화상 데이터를 사용해서 상기 에지 추출 파라미터를 생성하는 것을 특징으로 한다. Provided is a pattern inspecting and measuring device that decreases the influence of noise and the like and increases the reliability of an inspection or measurement result during inspection or measurement using the position of an edge extracted from image data obtained by imaging a pattern as the object of inspection or measurement. For this purpose, in the pattern inspecting and measuring device in which inspection or measurement of an inspection or measurement object pattern is performed using the position of the edge extracted, with the use of an edge extraction parameter, from the image data obtained by imaging the inspection or measurement object pattern, the edge extraction parameter is generated using a reference pattern having a shape as an inspection or measurement reference and the image data.