METHODS AND SYSTEMS FOR CREATING OR PERFORMING A DYNAMIC SAMPLING SCHEME FOR A PROCESS DURING WHICH MEASUREMENTS ARE PERFORMED ON WAFERS

웨이퍼들 상에서 측정들이 수행되는 프로세스에 대한 동적 샘플링 방식을 형성하거나 수행하기 위한 여러 다양한 방법들 및 시스템들이 제공된다. 웨이퍼들 상에서 측정들이 수행되는 프로세스에 대한 동적 샘플링 방식에 대한 한 가지 방법은 상기 웨이퍼들 상의 모든 측정 스팟들에서 적어도 하나의 로트 내 모든 웨이퍼들 상에서 측정들을 수행하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 상기 측정들의 결과들에 기초하여, 최적 샘플링 방식, 증강된 샘플링 방식, 감소된 샘플링 방식, 및 상기 프로세스에 대한 상기 동적 샘플링 방식에 대한 임계치들을 결정하는 단계를 포함한다. 상기 임계치들은 상기 최적 샘플링 방식, 상기 증강된 샘플링 방식 및 상기 감소된 샘플링 방식이 상기 프로세스에 대해 사용되어야 하는 상기 측정들의 값들에 대응한다. Various methods and systems for creating or performing a dynamic sampling scheme for a process during which measurements are performed on wafers are provided. One method for creating a dynamic sampling scheme for a process during which measurements are performed on wafers includes performing the measurements on all of the wafers in at least one lot at all measurement spots on the wafers. The method also includes determining an optimal sampling scheme, an enhanced sampling scheme, a reduced sampling scheme, and thresholds for the dynamic sampling scheme for the process based on results of the measurements. The thresholds correspond to values of the measurements at which the optimal sampling scheme, the enhanced sampling scheme, and the reduced sampling scheme are to be used for the process.