CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS AND ELECTROSTATIC CHUCK APPARATUS

상황에 따른 전압을 인가함으로써 장치의 신뢰성을 향상시킨다. 시료 스테이지(25)에 정전 척(30)에 의해 보유 지지된 시료(24)에 전자선(16)을 조사하고, 시료(24)의 화상을 생성하는 하전 입자선 장치(1)로서, 시료(24)를 보유 지지할 때에, 정전 척(30)의 척 전극(26)에 미리 설정한 초기 전압을 인가함과 함께, 시료(24)가 정전 척(30)에 정상적으로 흡착되었는지의 여부를 판정하고, 시료(24)가 정전 척(30)에 정상적으로 흡착되어 있지 않다고 판정한 경우에는, 시료(24)가 정전 척(30)에 정상적으로 흡착되...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OHSAWA TETSUJI, ISHIGAKI NAOYA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOTDIRECTED TO A PARTICULAR RESULT CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g.ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY GENERATION MACHINE TOOLS MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OFPARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR PERFORMING OPERATIONS SEMICONDUCTOR DEVICES TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	상황에 따른 전압을 인가함으로써 장치의 신뢰성을 향상시킨다. 시료 스테이지(25)에 정전 척(30)에 의해 보유 지지된 시료(24)에 전자선(16)을 조사하고, 시료(24)의 화상을 생성하는 하전 입자선 장치(1)로서, 시료(24)를 보유 지지할 때에, 정전 척(30)의 척 전극(26)에 미리 설정한 초기 전압을 인가함과 함께, 시료(24)가 정전 척(30)에 정상적으로 흡착되었는지의 여부를 판정하고, 시료(24)가 정전 척(30)에 정상적으로 흡착되어 있지 않다고 판정한 경우에는, 시료(24)가 정전 척(30)에 정상적으로 흡착되었다고 판정할 때까지, 척 전극(26)에 인가하는 전압을 상승시키는 정전 척 제어부(13)를 구비한다.