Apparatus for controlling conditioner for CMP equipment

PURPOSE: A conditioner control apparatus of CMP(Chemical Mechanical Polishing) equipment is provided to sustain uniformly the conditioning of a polishing pad by controlling conditioner speed according to positions. CONSTITUTION: A conditioner control apparatus includes a conditioner-speed-profile generator(30), a mixer(38), a conditioner controller(32), a driver(34) and a speed sensor(36). The generator outputs a control signal corresponding to a conditioner speed according to process conditions. The mixer mixes the control signal with a sensing signal. The conditioner controller outputs a driving signal corresponding to an output signal of the mixer. The driver varies the conditioner speed corresponding to the driving signal. The speed sensor transmits the sensing signal to the mixer. The sensing signal is obtained by sensing a spin speed of a polishing pad corresponding to the present position of a conditioner. The sensing signal is used for varying the conditioner speed according to positions. 본 발명은 회전하는 연마 패드 위를 왕복하는 컨디셔너의 이동 속도를 제어함으로써, 연마 패드의 단위 면적당 컨디셔닝 시간을 일정하게 개선시킨 화학기계적 연마 설비의 컨디셔너 제어 장치를 개시한다. 본 발명은 플래튼 상부의 연마 패드의 반경 범위를 위치에 따라서 변하는 속도로 직선 왕복하고, 정속으로 회전하는 상기 연마 패드를 컨디셔닝하는 컨디셔너를 구비하는 것을 특징으로 하고, 특히 본 발명의 상기 컨디셔너는 공정 조건에 따라 설정되는 상기 진행 속도에 대응되는 제어 신호를 출력하는 컨디셔너 속도 프로파일 생성기; 상기 제어신호와 피드백되는 센싱신호를 혼합하는 혼합기; 상기 혼합기의 출력신호에 대응되는 구동신호를 출력하는 컨디셔너 제어기; 상기 구동신호에 대응하여 상기 컨디셔너를 가변되는 속도로 구동시키는 구동기; 및 상기 컨디셔너의 현재 위치에 대응되는 상기 연마 패드의 회전 속도를 센싱하여 상기 위치에 따른 진행 속도 가변을 위한 상기 센싱신호를 피드백하는 속도 감지 센서를 구비하도록 구성된다.