Liquid Crystal Display and fabrication method of thereof

PURPOSE: An LCD(Liquid Crystal Display) and a manufacturing method thereof are provided to implement a high aperture ratio and a high resolution by using copper as the second metal layer, that is, a metal forming a source/drain electrode and forming the source/drain electrode through a wet etching method. CONSTITUTION: A gate electrode(33) and a gate line are formed on a substrate(31) by the first mask. Thereafter, an inorganic material such as SiNx or SiO2, an intrinsic semiconductor material such as pure amorphous silicon, a semiconductor material in which n+ or p+ type impurity is added and a low resistance metal such as copper are continuously deposited on the substrate(31), thereby forming a gate insulation film layer(37), an intrinsic semiconductor layer(39), an impurity semiconductor layer(41) and a copper layer. A photoresist(PR)(59) is formed at a portion including a region for forming a channel portion. A half tone portion(H/T)(61) having a relatively thin PR thickness is formed at the region for forming the channel portion. After removing the PR, the copper layer of the H/T portion(61) is removed through the wet etching, thereby forming the source/drain electrodes(45,47). 본 발명에 의한 액정표시장치는, 일반적인 4마스크 액정표시장치 제조공정에 의해 순차적으로 형성되는 게이트 전극 및 게이트 라인, 게이트 절연막, 진성 반도체층, 불순물 반도체층, 데이터 라인 및 소스/ 드레인 전극, 화소전극으로 구성된 액정표시장치에 있어서, 상기 데이터 라인 및 소스/ 드레인 전극이 구리로 형성되며, 상기 소스/ 드레인 전극은 습식 식각에 의해 분리되어 형성됨을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 따르면, 소스/ 드레인 전극 및 데이터 라인 등을 이루는 금속을 저 저항 물질인 구리로 함으로써 고개구율, 고해상도 액정표시장치를 구현할 수 있고, 또한, 상기 소스/ 드레인 전극을 형성함에 있어 습식 식각 방식을 이용함으로써 4마스크 방식으로 액정표시장치를 형성할 수 있는 장점이 있다.