Magnetically enhanced inductively coupled plasma source having external linear antenna therein for large area processing

PURPOSE: An inductively coupled plasma source for processing a large area provided with a magnetic field reinforced external type linear antenna is provided to increase the moving path due to the spiral motion of the electrons by optimally coupling the electric field and the magnetic field in the reaction chamber, thereby increasing the collision probability between the electrons and the neutrons. CONSTITUTION: An inductively coupled plasma source for processing a large area provided with a magnetic field reinforced external type linear antenna includes a reaction chamber(10), a dielectric material layer(30) and a plurality of linear antenna(40a- 40b). The dielectric material layer(30) is formed on the top and outside surface of the reaction chamber(10). And, the plurality of linear antenna(40a- 40b) is horizontally placed on the dielectric material layer(30) at regular space and forms an electric field by applying an induced power. 대면적의 기판에 대하여 플라즈마 처리 공정을 수행할 수 있도록 플라즈마 밀도 등 플라즈마 특성을 향상시킬 수 있는 자장강화된 외장형 선형 안테나를 구비하는 대면적 처리용 유도 결합 플라즈마 소오스가 개시된다. 본 발명의 유도 결합 플라즈마 소오스는, 반응챔버와 상기 반응챔버의 상부 외측에 형성된 유전물질층 및 상기 유전물질층 상에서 수평적으로 서로 일정한 간격을 두고 배치되어 있으며, 유도전력이 인가되어 전기장을 형성하는 복수개의 선형 안테나들을 포함하며, 상기 선형 안테나에 인접하여 배치된 적어도 하나의 자기장 발생부를 더 포함한다.