Gas delivery system for suppling gases to semiconductor manufacturing process

PURPOSE: A gas delivery system for providing gas to a semiconductor fabrication process is provided to maintain normally an operation of a gas supply unit by using an auxiliary control unit as well as a main control unit. CONSTITUTION: A gas delivery system for providing gas to a semiconductor fabrication process includes a gas supply unit(200), a main control unit(100), and an auxiliary control unit(150). The gas supply unit(200) supplies the gas to a semiconductor fabrication apparatus(300). The main control unit(100) controls operations of the gas supply unit(200) in order to supply the gas to a semiconductor fabrication apparatus(300). The auxiliary control unit(150) monitors functions of the main control unit(100) and maintain normally the operations of the gas supply unit regardless of a defect of the main control unit. 반도체 제조 공정으로 가스를 공급하기 위한 가스 운반 시스템(gas delivery system)을 제공한다. 본 발명의 일 관점에 의한 가스 운반 시스템은 반도체 제조 공정 설비로의 가스 공급을 위한 가스 공급부와, 가스 공급부의 가동을 제어하는 주 제어부, 및 주 제어부의 기능을 감시하여 주 제어부에 결함이 발생할 경우 주 제어부의 기능을 제한하여 가스 공급부가 주 제어부의 결함에 영향을 받지 않고 정상적으로 작동하도록 유지시키고 주 제어부를 다시 회복시키는 보조 제어부를 포함하여 구성된다.