A strurcture and manufacture method of optical switch that can be manufacture on single wafer with PLC mirror and actuator

PURPOSE: A structure of an optical switch for forming an optical waveguide, a mirror, and an actuator on a single substrate and a fabricating method thereof are provided to control the direction of light transmission and reduce a manufacturing cost by using the optical waveguide. CONSTITUTION: A sacrificial layer is formed on a substrate. A bottom clad layer for optical waveguide is formed on an upper surface of the sacrificial layer. A core layer(6) having a different refractive index is formed on an upper surface of the bottom clad layer. A top clad layer(7) is formed on the core layer(6) and the bottom clad layer. A photo etch process is performed to expose the sacrificial layer. A photoresist pattern is formed to prevent a metal deposition to an end part of the optical waveguide and fabricate an electrode pattern. A metal deposition process is performed, and the photoresist and the sacrificial layer are removed sequentially. 본 발명은 광스위치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광도파로를 이용하여 광전송 방향을 제어할수 있고 그 제조공정이 복잡하지 않아 제조원가를 낮출수 있으며, 특히 광도파로, 미러, 액추에이터를 단일 기판 위에 형성시킬 수 있어 다채널 실현이 가능한 광스위치 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 광도파로와 미러를 이용하여 광전송 방향을 제어할수 있고, 그 제조공정이 간편하여 제조원가를 낮출수 있으며, 특히 광도파로와 미러와 액추에이터를 단일 기판 위에 제조할수 있기 때문에 다채널 실현이 가능한 광스위치 제조방법을 제공하는데 있다. 상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판위에 희생층(4)을 형성하고 그 상층 면에 광도파로 하부 클래드 층(5)을 형성시키는 공정과; 상기 광도파로 하부 클래드 층 상층면에 굴절률이 다른 코어 층(6)을 형성시킨 다음 사진식각 기술을 이용하여 코어를 형성시키는 공정과; 코어 및 하부 클래드 층 상부에 상부 클래드 층(7)을 재차 형성한 후 다시 사진 식각 기술을 이용하여 희생층 막까지 깊게 식각하는 공정과; 도파로 끝단부에 메탈증착을 방지함과 아울러 전극패턴을 형성하기 위한 포토레지스트 패턴을 형성하는 공정과; 메탈(8)증착 공정을 거친 다음 포토레지스트를 제거하는 공정 및 희생층을 제거시키는 공정으로 이루어지는 광 도파로와 미러, 액추에이터를 한 기판 위에 형성시키는 것을 특징으로 한다.