method for preventing over-detecting of optical detection and system for performing the same

PURPOSE: A method and a system for preventing over-detection of an optical inspection are provided to enhance the accuracy of the optical inspection by comparing a transmitted image of a bad sector to a reflected image of the bad sector. CONSTITUTION: A system for preventing over-detection of an opt...

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Hauptverfasser: YOO, GEUN HONG, CHOI, HYUN HO
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:PURPOSE: A method and a system for preventing over-detection of an optical inspection are provided to enhance the accuracy of the optical inspection by comparing a transmitted image of a bad sector to a reflected image of the bad sector. CONSTITUTION: A system for preventing over-detection of an optical inspection includes a camera(10), a reflective light forming unit(20), a transmitted light forming unit(30), and a control unit. The camera(10) is used for photographing fine patterns of a substrate(40). The reflective light forming unit(20) is located at a bottom part of the camera(10) or a top part of the substrate(40) in order to form the reflective light(25). The transmitted light forming unit(30) is located at a bottom part of the substrate(40) in order to form the transmitted light(35). The control unit controls each operation of the camera(10), the reflective light forming unit(20), and the transmitted light forming unit(30). LCD 드라이버 IC 및 메모리등 각종 반도체 IC들의 제조에 사용되는 주요 재료의 하나로 Film, Tape등의 형태로 제조되는 기판의 패턴내의 리드와 리드들 사이에 존재하는 양품성 이물 및 먼지등에 의한 과검출을 방지하여 검사의 신뢰성 및 생산성을 높이기 위한 광학적 검사의 과검출 방지 방법 및 이를 수행하기 위한 시스템이 개시된다. 본 발명은 미세한 패턴이 형성되는 Film, Tape형태의 기판의 광학적인 검사방법에 있어서, 투과광을 통하여 얻은 패턴의 투과영상데이터를, 기 표준으로 설정된 기준영상데이터와 비교하여, 상기 패턴내에 리드 합선 및/또는 돌기가 발견되면, 상기 리드 합선 및/또는 돌기가 위치한 불량 부위에 반사광을 통하여 반사영상데이터를 얻은 후, 이를 검사하여 상기 패턴의 양품여부를 판단하는 것으로 제품의 광학적 검사 시 양품성 이물 및 먼지 등에 의한 과 검출을 방지하여 생산성을 증진 시킨다.