Plasma Display Panel Production Process and Transfer Film for Fabricating Separator Wall
PURPOSE: To provide a manufacturing method for a plasma display panel sufficiently reducing the number of process in the formation of a partition wall, having superior production efficiency, and capable of forming highly accurate partition wall compared with the conventional manufacturing method and...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | PURPOSE: To provide a manufacturing method for a plasma display panel sufficiently reducing the number of process in the formation of a partition wall, having superior production efficiency, and capable of forming highly accurate partition wall compared with the conventional manufacturing method and to provide a transfer film for forming the partition wall suitably used for a new formation process of the partition wall. CONSTITUTION: This partition wall formation method is provided with a process for forming a glass frit contained resin layer on a substrate by transferring the glass frit contained resin layer formed on a support film and forming a resist film on the glass frit contained resin layer, a process for forming a resist pattern on the glass frit contained resin layer by exposing and developing the resist film, a process forming a pattern of the glass frit contained resin layer corresponding to the resist pattern on the substrate by sand blasting the glass frit contained resin layer, and a process of backing the pattern of the glass frit contained resin layer.
본 발명은 종래의 제조 방법과 비교하여, 격벽 형성에 있어서의 공정수가 실질적으로 적고, 제조 효율이 우수하고, 치수 정밀도가 높은 격벽을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 신규 격벽의 형성 공정에 적합하게 사용할 수 있는 격벽 형성용 전사 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 지지 필름 상에 형성된 유리 프릿 함유 수지층을 전사함으로써 기판 상에 유리 프릿 함유 수지층을 형성하고, 해당 유리 프릿 함유 수지층 상에 레지스트막을 형성하는 공정, 레지스트막을 노광ㆍ현상 처리하여 유리 프릿 함유 수지층 상에 레지스트 패턴을 형성하는 공정, 유리 프릿 함유 수지층을 샌드 블라스트 처리하여 레지스트 패턴에 대응하는 유리 프릿 함유 수지층의 패턴을 기판 상에 형성하는 공정 및 유리 프릿 함유 수지층의 패턴을 소성하는 공정을 포함하는 격벽형성 방법에 관한 것이다. |
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