SPUTTERING APPARATUS

스퍼터링장치에서는 웨이퍼를 클램핑하는 클램프의 선단부가 웨이퍼와의 접촉면적을 줄이기 위해 사각형상 대신에 삼각형상으로 이루어진다. 또한, 클램프는 웨이퍼의 하중을 충분히 견디면서 웨이퍼의 클램핑을 유지할 정도의 수량인 4개로 이루어진다. 따라서, 스퍼터링공정의 공정조건을 개선하지 않고도 단지 클램프의 선단부 구조만을 변경함으로써 많은 비용의 투입없이도 양품 수율이 향상된다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	JUN, CHA-SU
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	스퍼터링장치에서는 웨이퍼를 클램핑하는 클램프의 선단부가 웨이퍼와의 접촉면적을 줄이기 위해 사각형상 대신에 삼각형상으로 이루어진다. 또한, 클램프는 웨이퍼의 하중을 충분히 견디면서 웨이퍼의 클램핑을 유지할 정도의 수량인 4개로 이루어진다. 따라서, 스퍼터링공정의 공정조건을 개선하지 않고도 단지 클램프의 선단부 구조만을 변경함으로써 많은 비용의 투입없이도 양품 수율이 향상된다.