SEMICONDUCTOR DEVICE
본 고안은 공정이 진행되기 전에 가스 누출 발생 여부를 확인하여 소자의 수율을 향상시키기 위한 반도체 제조 장치를 제공하는데 그 목적이 있다. 본 고안의 반도체 제조 장치는 LN를 포함한 4종류의 가스 유량을 각각 조절하는 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 유량 제어 부, 상기 제 1 유량 제어 부의 유출 가스인 LN가스가 유입되며 PoCl액체가 채워진 버블러, 상기 LN가스와 PoCl액체의 반응 가스인 상기 버블러 유출 가스의 유출 여부 스위칭 역할을 하며 가스를 외부로 배출시키는 제 1 밸브, 상기 버블러 유출 가스의 유출 여부...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
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| Zusammenfassung: | 본 고안은 공정이 진행되기 전에 가스 누출 발생 여부를 확인하여 소자의 수율을 향상시키기 위한 반도체 제조 장치를 제공하는데 그 목적이 있다. 본 고안의 반도체 제조 장치는 LN를 포함한 4종류의 가스 유량을 각각 조절하는 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 유량 제어 부, 상기 제 1 유량 제어 부의 유출 가스인 LN가스가 유입되며 PoCl액체가 채워진 버블러, 상기 LN가스와 PoCl액체의 반응 가스인 상기 버블러 유출 가스의 유출 여부 스위칭 역할을 하며 가스를 외부로 배출시키는 제 1 밸브, 상기 버블러 유출 가스의 유출 여부 스위칭 역할을 하며 상기 제 2, 제 3, 제 4 유량 제어 부의 유출 가스들과 하나의 경로로 연결되는 제 2 밸브, 상기 제 2, 제 3, 제 4 유량 제어 부와 제 2 밸브 연결 부위의 유량을 측정하는 유량 계측기와, 상기 유량 계측기의 유출 가스가 유입되는 튜브를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. |
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