Method for manufacturing micro mask

PURPOSE: A fine mask fabrication method is provided to improve an accuracy and to prevent an overlay by using a thermal flowing, RELACS(Resolution Enhancement Lithography Assisted by Chemical Shrink). CONSTITUTION: A photoresist(24) is coated on a membrane(22). The photoresist(24) is then firstly exposed by using a first mask(26) having a first pattern, and secondly exposed by using a second mask having a second pattern. Then, the photoresist(24) is developed. When the photoresistor(24) is positive type, thermal flowing and RELACS processes are carried out. When the photoresist(24) is negative type, O2 ashing process is performed. 본 발명은 정확도 및 정밀도가 우수한 미세 마스크 제조방법을 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 미세 마스크 제조방법은 프레임과 상기 프레임상에 형성된 앱소버와, 상기 앱소버상에 형성된 맴브레인과, 상기 맴브레인상에 패터닝된 감광제로 이루어지는 마스크 제조에 있어서, 상기 맴브레인상에 감광제를 도포하는 공정과, 제 1 패턴이 레이아웃된 제 1 마스크를 이용하여 상기 감광제를 노광하는 공정과, 제 2 패턴이 레이아웃된 제 2 마스크를 이용하여 상기 감광제를 노광하는 공정과, 상기 감광제를 현상하는 공정과, 후처리를 실시하여 원하는 미세 패턴을 형성하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.