Method for producing devices having piezoelectric films

PURPOSE: A method for producing device having piezoelectric films is provided to control the deposition and surface roughness of the metal layer, i.e., a lower surface roughness for the electrode results in an improved quality for the piezoelectric film. CONSTITUTION: The resonator has a substrate(1...

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Hauptverfasser: RITTENHOUSE GEORGE E, PASTALAN JOHN Z, BOWER JOHN ERIC
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:PURPOSE: A method for producing device having piezoelectric films is provided to control the deposition and surface roughness of the metal layer, i.e., a lower surface roughness for the electrode results in an improved quality for the piezoelectric film. CONSTITUTION: The resonator has a substrate(110), a layer(120) of piezoelectric material, and an acoustic reflecting region(125), such as a Bragg reflecting region, between the substrate(110) and layer(120). Alternative to the reflecting region(125), a layer of air (not shown) may be used to suspend the layer(120) above the substrate(110). A bottom electrode(135) and top electrode(130) are disposed on opposite surfaces of the piezoelectric layer(120). 공진기 디바이스 내에서 사용되는 향상된 압전막을 얻는 방법이 개시되었다. 상기 방법은, 압전막(예를 들면, 압전 발진기 내에서 사용되는)의 텍스처가 아래에 놓여있는 표면의 형태에 의해 직접적으로 영향을 받고, 부가적으로, 전극의 표면의 형태는 아래에 놓인 산화물층 또는 브레그 스택의 표면 형태에 의해 영향을 받는다는 출원인에 인식에 기초한다. 따라서, 본 발명은 증착 및 전극 또는 선택적으로 브레그 스택의 표면 거칠기 제어하는 단계를 포함하는, 압전막 및 전극을 갖는 디바이스를 제조하는 방법을 포함한다.