APPARATUS FOR GUIDING STOP POSITION OF ROBOT IN WET STATION

PURPOSE: An apparatus for guiding a stop position of a robot is to eliminate an accumulative error generated in a driving portion which drives a robot so as to enter a wafer into a chemical bath at an exact position, thereby improving a reliability of the apparatus. CONSTITUTION: A robot(R) used in a wet station raises up/down a carrier containing wafer sand simultaneously moves along a lack rail(34) horizontally and performs an etching process through a plurality of chemical baths. In an apparatus(40) for guiding a stop position of the robot, a cylinder(41) is mounted at a side of the robot so that an end of a rod(42) of the cylinder is supported along a slide portion of the lack rail, when the robot is horizontally moved. If the robot is detached from a right position of each bath, an accumulative error is compensated by correcting a position of the robot. The lack rail is formed with a lack gear at an upper portion thereof, which is engaged with a pinion(33) fixed to a motor shaft(32) of a motor(31) for driving the robot and guides the robot, and a stop groove(35) at a side thereof. A roller is installed in the rod end of the cylinder in order to be rotated along the side of the lack rail. 본 발명은 반도체 웨이퍼 습식식각설비용 로봇의 정지위치 안내장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 로봇의 정지위치 안내장치는 웨이퍼를 적재한 캐리어를 승강시킴과 아울러 이를 수반한 상태로 래크레일을 따라 수평 이동하면서 케미컬이 저장된 복수의 배스 간에 식각공정을 수행하는 로봇의 구성에 있어서, 상기 로봇의 일측에 실린더를 설치하여 수평 이동시 상기 실린더의 로드 선단이 상기 래크레일의 측면부를 따라 접촉 지지될 수 있도록 함과 아울러, 상기 로봇이 각 배스의 정위치로부터 이탈하였을 때 그 누적오차 만큼 위치 보정을 할 수 있도록 구성됨을 특징으로 한다. 따라서, 이러한 구성에 의해 상기 로봇을 구동하는 구동부에서 발생하는 누적오차 현상을 제거하여 정확한 위치에서의 배스 내 웨이퍼 투입이 이루어지도록 함으로써 식각설비의 가동 정지율 및 웨이퍼의 파손을 최소화하고, 공정 상의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 되는 효과가 있다.