SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT

SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT

반도체 웨이퍼 클리닝 유닛이 개시된다. 본 발명의 반도체 웨이퍼 클리닝 유닛은, 본체에 마련되어 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역을 클리닝하는 제1 클리닝 유닛; 및 본체에 마련되며 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역과 반대 영역인 제2면 영역을 클리닝하는 제2 클리닝 유닛을 포함하고, 제1 클리닝 유닛은 롤러와 물을 이용하여 상기 웨이퍼 시편을 클리닝할 수 있다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CHOI DOYOUNG, CHO HYUNSANG, CHOI YOUNGSUP, KIM JUNGA, KIM SUHWAN, LEE CHANGKI
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator CHOI DOYOUNG
CHO HYUNSANG
CHOI YOUNGSUP
KIM JUNGA
KIM SUHWAN
LEE CHANGKI
description 반도체 웨이퍼 클리닝 유닛이 개시된다. 본 발명의 반도체 웨이퍼 클리닝 유닛은, 본체에 마련되어 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역을 클리닝하는 제1 클리닝 유닛; 및 본체에 마련되며 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역과 반대 영역인 제2면 영역을 클리닝하는 제2 클리닝 유닛을 포함하고, 제1 클리닝 유닛은 롤러와 물을 이용하여 상기 웨이퍼 시편을 클리닝할 수 있다.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR102695203BB1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR102695203BB1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR102695203BB13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZFAMdvX1dPb3cwl1DvEPUgh3dHMNUnD2cXX08_RzVwj18wzhYWBNS8wpTuWF0twMym6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXx3kGGBkZmlqZGBsZOTobGxKkCAKqxIzk</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT</title><source>esp@cenet</source><creator>CHOI DOYOUNG ; CHO HYUNSANG ; CHOI YOUNGSUP ; KIM JUNGA ; KIM SUHWAN ; LEE CHANGKI</creator><creatorcontrib>CHOI DOYOUNG ; CHO HYUNSANG ; CHOI YOUNGSUP ; KIM JUNGA ; KIM SUHWAN ; LEE CHANGKI</creatorcontrib><description>반도체 웨이퍼 클리닝 유닛이 개시된다. 본 발명의 반도체 웨이퍼 클리닝 유닛은, 본체에 마련되어 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역을 클리닝하는 제1 클리닝 유닛; 및 본체에 마련되며 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역과 반대 영역인 제2면 영역을 클리닝하는 제2 클리닝 유닛을 포함하고, 제1 클리닝 유닛은 롤러와 물을 이용하여 상기 웨이퍼 시편을 클리닝할 수 있다.</description><language>eng ; kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240816&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=102695203B1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240816&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=102695203B1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>CHOI DOYOUNG</creatorcontrib><creatorcontrib>CHO HYUNSANG</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI YOUNGSUP</creatorcontrib><creatorcontrib>KIM JUNGA</creatorcontrib><creatorcontrib>KIM SUHWAN</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE CHANGKI</creatorcontrib><title>SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT</title><description>반도체 웨이퍼 클리닝 유닛이 개시된다. 본 발명의 반도체 웨이퍼 클리닝 유닛은, 본체에 마련되어 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역을 클리닝하는 제1 클리닝 유닛; 및 본체에 마련되며 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역과 반대 영역인 제2면 영역을 클리닝하는 제2 클리닝 유닛을 포함하고, 제1 클리닝 유닛은 롤러와 물을 이용하여 상기 웨이퍼 시편을 클리닝할 수 있다.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFAMdvX1dPb3cwl1DvEPUgh3dHMNUnD2cXX08_RzVwj18wzhYWBNS8wpTuWF0twMym6uIc4euqkF-fGpxQWJyal5qSXx3kGGBkZmlqZGBsZOTobGxKkCAKqxIzk</recordid><startdate>20240816</startdate><enddate>20240816</enddate><creator>CHOI DOYOUNG</creator><creator>CHO HYUNSANG</creator><creator>CHOI YOUNGSUP</creator><creator>KIM JUNGA</creator><creator>KIM SUHWAN</creator><creator>LEE CHANGKI</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240816</creationdate><title>SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT</title><author>CHOI DOYOUNG ; CHO HYUNSANG ; CHOI YOUNGSUP ; KIM JUNGA ; KIM SUHWAN ; LEE CHANGKI</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR102695203BB13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>CHOI DOYOUNG</creatorcontrib><creatorcontrib>CHO HYUNSANG</creatorcontrib><creatorcontrib>CHOI YOUNGSUP</creatorcontrib><creatorcontrib>KIM JUNGA</creatorcontrib><creatorcontrib>KIM SUHWAN</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE CHANGKI</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>CHOI DOYOUNG</au><au>CHO HYUNSANG</au><au>CHOI YOUNGSUP</au><au>KIM JUNGA</au><au>KIM SUHWAN</au><au>LEE CHANGKI</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT</title><date>2024-08-16</date><risdate>2024</risdate><abstract>반도체 웨이퍼 클리닝 유닛이 개시된다. 본 발명의 반도체 웨이퍼 클리닝 유닛은, 본체에 마련되어 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역을 클리닝하는 제1 클리닝 유닛; 및 본체에 마련되며 이송 유닛에 의해 이송된 웨이퍼 시편의 제1면 영역과 반대 영역인 제2면 영역을 클리닝하는 제2 클리닝 유닛을 포함하고, 제1 클리닝 유닛은 롤러와 물을 이용하여 상기 웨이퍼 시편을 클리닝할 수 있다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; kor
recordid cdi_epo_espacenet_KR102695203BB1
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
title SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING UNIT
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-01T13%3A15%3A24IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=CHOI%20DOYOUNG&rft.date=2024-08-16&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR102695203BB1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true