Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다....
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
container_end_page | |
---|---|
container_issue | |
container_start_page | |
container_title | |
container_volume | |
creator | LEE DAEGEON KONG DAE SUNG |
description | 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다. |
format | Patent |
fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR102649602BB1</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR102649602BB1</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR102649602BB13</originalsourceid><addsrcrecordid>eNqNjD0LwjAURbM4iPofHjgLbZWCa_1AcBNnyyO9sYH2JSZR8N-bQZydLudy7p2q2x4vq0EsHY1IvevIuECQnkVbudPjyYNNb3KGrCQEgwDJA88pk-SSUmCJo43ROvlJLr8hzNXE8BCx-OZMLY-H6-60gnctomcNQWrPl7Ko6s22LqqmKdf_WR91_D5d</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer</title><source>esp@cenet</source><creator>LEE DAEGEON ; KONG DAE SUNG</creator><creatorcontrib>LEE DAEGEON ; KONG DAE SUNG</creatorcontrib><description>본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다.</description><language>eng ; kor</language><subject>MEASURING ; MEASURING ANGLES ; MEASURING AREAS ; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS ; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS ; PHYSICS ; TESTING</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240320&DB=EPODOC&CC=KR&NR=102649602B1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76290</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240320&DB=EPODOC&CC=KR&NR=102649602B1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>LEE DAEGEON</creatorcontrib><creatorcontrib>KONG DAE SUNG</creatorcontrib><title>Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer</title><description>본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다.</description><subject>MEASURING</subject><subject>MEASURING ANGLES</subject><subject>MEASURING AREAS</subject><subject>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</subject><subject>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNqNjD0LwjAURbM4iPofHjgLbZWCa_1AcBNnyyO9sYH2JSZR8N-bQZydLudy7p2q2x4vq0EsHY1IvevIuECQnkVbudPjyYNNb3KGrCQEgwDJA88pk-SSUmCJo43ROvlJLr8hzNXE8BCx-OZMLY-H6-60gnctomcNQWrPl7Ko6s22LqqmKdf_WR91_D5d</recordid><startdate>20240320</startdate><enddate>20240320</enddate><creator>LEE DAEGEON</creator><creator>KONG DAE SUNG</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240320</creationdate><title>Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer</title><author>LEE DAEGEON ; KONG DAE SUNG</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR102649602BB13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>MEASURING</topic><topic>MEASURING ANGLES</topic><topic>MEASURING AREAS</topic><topic>MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS</topic><topic>MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>LEE DAEGEON</creatorcontrib><creatorcontrib>KONG DAE SUNG</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>LEE DAEGEON</au><au>KONG DAE SUNG</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer</title><date>2024-03-20</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
fulltext | fulltext_linktorsrc |
identifier | |
ispartof | |
issn | |
language | eng ; kor |
recordid | cdi_epo_espacenet_KR102649602BB1 |
source | esp@cenet |
subjects | MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS PHYSICS TESTING |
title | Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer |
url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-28T19%3A38%3A08IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=LEE%20DAEGEON&rft.date=2024-03-20&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR102649602BB1%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |