Device and method for enhancing quality of interference pattern in transmission interferometer
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다....
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| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
| Schlagworte: | |
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| Zusammenfassung: | 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과형 간섭계에서의 간섭 패턴 품질 향상 장치 및 방법은, 객체 빔(object beam)의 경로 길이와 참조 빔(reference beam)의 경로 길이가 서로 동일하게 되도록 하기 위해, 객체(object)의 물리적 특성을 기반으로 광학 지연 라인(optical delay line)의 길이를 조절함으로써, 간섭 패턴(interference pattern)의 품질을 향상시킬 수 있다. |
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