High-yield fabrication method for high-contrast optical modulators based on zero-gap platform

변형 메타표면에 응용 가능한 초미세 틈 구조 기반 고효율 광학 능동소자 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 초미세 틈 구조 기반 고효율 광학 능동소자 제조방법은, (a) 베이스 기판(substrate)을 준비하고 상기 기판 상에 하드마스크 역할을 하는 제1희생층을 증착하는 단계; (b) 상기 제1희생층이 형성된 기판 상에 반사층을 형성하는 제1반사층 증착 단계; (c) 상기 제1반사층이 형성된 기판 상에 제2희생층을 증착하고 표준 포토리소그래피 및 리프트-오프 공정을 통해 패터닝하는 제2희생층 패터닝 단계; (d) 상기 제2희생층으로 덮이지 않은 노출된 제1반사층 영역에 대하여 이온 밀링 공정으로 식각하여 패터닝하는 제1반사층 패터닝 단계; (e) 상기 패턴이 형성된 기판 상에 추가로 반사층을 형성하는 제2반사층 증착 단계; (f) 상기 기판 상에 돌출된 영역에 대하여 화학적으로 식각하여 노출되는 반사층을 평탄화하는 단계; (g) 상기 기판의 상단에 경화성 고분자를 코팅하고 경화시켜 부착시키는 고분자 기판 형성 단계; 및 (h) 상기 단계 (a)의 베이스 기판과 단계 (h)의 고분자 기판층 사이에 존재하는 제1희생층을 화학적으로 식각하여, 상기 단계 (a)의 베이스 기판과 단계 (g)의 고분자 기판을 분리시키는 단계로 구성된 초미세 틈 구조 기반 고효율 광학 능동소자 제조방법에 관한 것이다.