Photoresist automatic supply device for semiconductor manufacturing facilities

본 발명은 반도체를 제조하기 위한 설비에 포토레지스트를 자동으로 공급할 수 있는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 포토레지스트가 수용된 용기에 밸브를 설치하여 밸브가 하부로 위치된 상태에서 밸브를 개방시켜야 포토레지스트가 공급되도록 하되, 포토레지스트가 수용된 용기의 회전 및 밸브 개방 위치로 자동으로 전환하여 포토레지스트를 공급할 수 있는 반도체 제조 설비용 포토레지스트 자동 공급 장치에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조 설비용 포토레지스트 자동 공급 장치는, 반도체 제조 공정으로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 탱크, 포토레지스트가 수용되어 상기 포토레지스트 탱크 측으로 포토레지스트를 주입할 수 있는 주입 용기, 상기 주입 용기를 회전시켜 입구가 아래쪽의 포토레지스트 탱크를 향하도록 하는 주입 용기 회전부, 상기 주입 용기 회전부에 의해 주입 용기의 입구가 포토레지스트 탱크를 향한 상태에서 주입 용기를 하향 이동시켜 포토레지스트 탱크에 도킹되도록 하는 주입 용기 상하 구동부, 상기의 구성들이 구동 위치로 배치되도록 설치되는 프레임 및 상기 프레임의 외측으로 씌워지는 케이싱을 포함한다.