PATTERN LIGHTING SYSTEM USING A DISPLAY IN A VISUAL INSPECTION SYSTEM

According to an embodiment of the present invention, a pattern lighting system using a display calculates lighting form information (light irradiation intensity, light irradiation pattern, etc.) necessary for acquiring an image of a subject based on the optical characteristics of the subject (such a...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: HWANG EUN SUNG, PARK JIN SU
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:According to an embodiment of the present invention, a pattern lighting system using a display calculates lighting form information (light irradiation intensity, light irradiation pattern, etc.) necessary for acquiring an image of a subject based on the optical characteristics of the subject (such as light scattering, absorption, and refraction), provides the calculated lighting form information to a lighting system linked with a camera of a vision system so that the lighting system can quickly change and generate lighting suitable for the lighting form information to which the optical characteristics of the subject, thereby enhancing work efficiency, improving the capturing quality of the subject, and significantly reducing the time required for capturing the subject by changing the lighting in vertical frequency units through synchronization between the camera and the lighting system. 본 발명의 일실시예에 따르면, 디스플레이를 이용한 패턴 조명 시스템에 있어서, 피사체의 광특성(빛의 산란, 흡수, 굴절 등)을 기반으로 피사체의 이미지 획득에 필요한 조명 형태 정보(광조사 세기, 광조사 패턴 등)를 산출하고, 산출된 조명 형태 정보를 비전 시스템의 카메라와 연동된 조명 시스템에 제공하여 조명 시스템에서 피사체의 광특성이 반영된 조명 형태 정보에 맞는 조명을 신속하게 변경 생성될 수 있도록 하여 작업 효율을 높일 수 있고 피사체에 대한 촬영 품질을 높일 수 있으며, 카메라와 조명 시스템간 동기화를 통해 수직 주파수 단위로 조명을 변경할 수 있도록 하여 피사체 촬영에 소요되는 작업시간을 획기적으로 줄일 수 있다.