HIGH PRESSURE HEAT-TREATMENT APPARATUS

The present invention provides a high-pressure heat-treatment apparatus comprising: a first chamber formed to accommodate an object for heat treatment; a second chamber formed to heat the first chamber while surrounding the first chamber; a third chamber including a 3-1 chamber disposed to surround a part of the second chamber and a 3-2 chamber disposed to surround another part of the second chamber; and a gas supply module configured to supply a process gas for heat treatment of the object into the first chamber at first pressure, supply a protective gas to a space between the second chamber and the first chamber at second pressure set in relation to the first pressure, and supply the protective gas to a space between each of the 3-1 chamber and the 3-2 chamber and the second chamber at third pressure lower than the first pressure and the second pressure, but higher than the external pressure of the third chamber to block the inflow of external air into the third chamber. According to the present invention, even when the heat treatment process is carried out at a high temperature, the risk of ignition due to gas leakage during the process can be structurally prevented. 본 발명은, 열처리를 위한 대상물을 수용하도록 형성되는 제1 챔버; 상기 제1 챔버를 감싼 채로 상기 제1 챔버를 가열하도록 형성되는 제2 챔버; 상기 제2 챔버의 일부를 감싸도록 배치되는 제3-1 챔버와, 상기 제2 챔버의 다른 일부를 감싸도록 배치되는 제3-2 챔버를 구비하는 제3 챔버; 및 상기 제1 챔버 내에 상기 대상물의 열처리를 위한 공정 가스를 제1 압력으로 공급하고, 상기 제2 챔버와 상기 제1 챔버 사이의 공간에는 보호 가스를 상기 제1 압력과 연관해 설정된 제2 압력으로 공급하며, 상기 제3 챔버 내로의 외부 공기의 유입을 차단하기 위하여 상기 제3-1 챔버 및 상기 제3-2 챔버 각각과 상기 제2 챔버 사이의 공간에 상기 제1 압력 및 상기 제2 압력 보다 낮고 상기 제3 챔버의 외부의 압력보다 높은 제3 압력으로 상기 보호 가스를 공급하도록 구성되는 급기 모듈을 포함하는, 고압 열처리 장치를 제공한다.