Antistatic resistivity value automatic control system for semiconductor manufacturing process

The present invention relates to an automatic control system of an antistatic resistivity value for a semiconductor manufacturing process which is a cleaning liquid producing device which produces and supplies a cleaning liquid with a relatively small resistivity value to suppress the generation of static electricity due to friction during the spraying for cleaning onto objects to be cleaned such as a wafer. More specifically, according to the automatic control system of an antistatic resistivity value for a semiconductor manufacturing process for automatically adjusting a resistivity value of a cleaning liquid, a gas for reducing resistivity such as carbon dioxide is dissolved in a raw cleaning liquid such as ultrapure water in a dissolution portion to create a dissolved solution, and then the dissolved solution is mixed with the raw cleaning liquid such as ultrapure water in a mixing portion to produce a cleaning liquid having a predetermined required resistivity value. The automatic control system of an antistatic resistivity value for a semiconductor manufacturing process comprises: a carbon dioxide gas storage portion (100); an ultrapure water storage portion (200); a dissolution portion (300); a mixing portion (400); a dissolved solution automatic control valve portion (500); and an automatic control portion (600). 본 발명은 반도체 제조 공정용 대전방지 비저항 수치 자동 컨트롤 시스템에 관한 것으로서, 세정을 위해서 웨이퍼 등의 피세정물에 분사시 마찰에 의한 정전기의 발생이 억제되도록 비교적 작은 비저항값을 가지는 세정액을 제조하여 공급하는 세정액 제조장치로서, 보다 상세하게는 용해부에서 초순수 등의 세정액 원수에 이산화탄소 등의 비저항 감소용 기체를 용해시켜서 용해액을 만든 후, 혼합부에서 용해액을 초순수 등의 세정액 원수와 혼합하여 소정의 요구되는 비저항값을 가지는 세정액을 제조할 수 있는 세정액의 비저항값의 조절을 자동으로 수행하기 위한 반도체 제조 공정용 대전방지 비저항 수치 자동 컨트롤 시스템에 관한 것이다.