Surface Profile Measuring Device And Controlling Method Thereof
Disclosed are a surface profile measuring device and a controlling method thereof. According to one embodiment of the present invention, the surface profile measuring device comprises: a light source; a first light splitter splitting light irradiated from the light source into object light and refer...
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | Disclosed are a surface profile measuring device and a controlling method thereof. According to one embodiment of the present invention, the surface profile measuring device comprises: a light source; a first light splitter splitting light irradiated from the light source into object light and reference light; an object lens installed on a route of the object light; a wavefront curvature controller installed on a route of at least one of the object light and the reference light to control a wavefront curvature of incident light; an imaging device obtaining an interference pattern; and a profile information generator generating surface profile information of a target object based on the interference pattern.
표면 프로파일 측정장치 및 그의 제어방법이 개시된다. 본 개시의 일 실시예에 의하면, 광원; 상기 광원에서 조사된 광을 대물광 및 참조광으로 분할하는 제1 광분할기; 상기 대물광의 경로 상에 설치된 대물렌즈; 상기 대물광 및 상기 참조광 중 적어도 하나의 경로 상에 설치되어 입사된 광의 파면곡률을 조절하도록 구성된 파면곡률 조절기; 간섭패턴을 획득하는 촬상소자; 및 상기 간섭패턴을 기초로 대상 객체의 표면 프로파일 정보를 생성하는 프로파일 정보 생성기를 포함하는 표면 프로파일 측정장치가 개시된다. |
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