A Method and apparatus for performing analysis result feedback for semiconductor post-processing

The present invention relates to a method and apparatus for performing analysis result feedback for semiconductor post-processing. According to one embodiment of the present invention, an operating method for performing analysis result feedback for semiconductor post-processing comprises: (a) a step of receiving measurement data from a semiconductor process facility or an IoT sensor; (b) a step of performing analysis on the semiconductor process facility by using the measurement data; and (c) a step of transmitting a result of the analysis to a user terminal. The result of the analysis may be displayed by the user terminal. 본 발명은 반도체 후공정용 분석결과 피드백을 수행하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 후공정용 분석결과 피드백을 수행하기 위한 서버의 동작 방법은, (a) 반도체 공정 설비 또는 IoT 센서로부터 측정 데이터를 수신하는 단계; (b) 상기 측정 데이터를 이용하여 상기 반도체 공정 설비에 대한 분석을 수행하는 단계; 및 (c) 상기 분석 결과를 사용자 단말에게 송신하는 단계;를 포함하고, 상기 분석 결과는, 사용자 단말에 의해 디스플레이될 수 있다.