Elimination and treatment method of Arsenic compound in hydrogen fluoride for manufacturing of ultra-high-purity hydrogen fluoride

The present invention relates to an elimination and treatment method of an arsenic compound in hydrogen fluoride during manufacture of ultra-high-purity hydrogen fluoride, which comprises: a first step of introducing natural-hydrofluoric acid (crude-AHF) containing AsF_3 and F_2 gas as an oxidizing agent into a reactor; a second step of producing AsF_5 gas by an oxidation reaction of the AsF_ 3 and F_2 gas; a third step of forming an XAsF_x(OH)_y compound (X is one selected from Na, K, Li, Ca, and Ba, x is 5-7 and y is 0 or 1) by reacting the produced AsF_5 gas with an absorption liquid; and a fourth step of discharging the AsF_5 gas that did not react with the absorption liquid in the third step to the atmosphere. According to the present invention, by using a method of maximizing a contact time to increase a conversion rate during oxidation of AsF_3 using F_2 gas, the arsenic compound in the hydrogen fluoride can be removed with high efficiency when producing the ultra-high-purity hydrogen fluoride, and a gaseous arsenic compound generated during a manufacturing process can be effectively treated. 본 발명은 AsF3를 포함하는 천연-무수 불산(Crude-AHF)과 산화제인 F2 가스를 반응기에 투입하는 제1단계, 상기 AsF3 와 F2 가스의 산화반응으로 AsF5 가스를 제조하는 제2단계, 상기 제조된 AsF5 가스와 흡수액을 반응시켜 XAsFx(OH)y(X = Na, K, Li, Ca, Ba 중에서 선택되며; x = 5 ~ 7; y = 0 또는 1임) 화합물을 형성시키는 제3단계, 및 상기 제3단계에서 흡수액과 반응하지 않은 AsF5 가스를 대기로 배출시키는 제4단계를 포함하는 초고순도 불화수소가스 제조 시 불화수소 내 비소화합물의 제거 및 처리방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, F2 가스를 이용하여 AsF3의 산화 시 전환율을 높이기 위하여 접촉시간을 극대화시키는 방법을 이용하여, 초고순도 불화수소 제조 시 높은 효율로 불화수소 내 비소화합물을 제거할 수 있고, 제조 공정 중 발생하는 기상의 비소화합물을 효과적으로 처리할 수 있는 방법을 제공할 수 있다.