Rotating zig for Wet etching device with Vertical loading type withdrawal structure

The present invention relates to a rotary jig for a wet etching device having a vertical loading type withdrawal structure and, more specifically, to a rotary jig capable of enabling vertical loading and rotation on its axis with respect to a mask sheet during a wet etching process. The mask sheet enables a working jig part to facilitate coupling and assembly during placement (or suspension assembly and tensioning), while enables a rotating jig part to perform precise and stable rotation and staged moving loading during rotation on its axis and vertical transfer. Thus, the present invention can minimize defects (fundamentally preventing a wave, delamination, a spec change, torsion, a shadow, a stain and the like of a thin large-area sheet) in contrast to an existing horizontal etching method for a mask sheet as well as can guarantee high productivity, improved workability and excellent equality. 본 발명은 수직 로딩식 인출 구조를 갖는 웻(wet) 에칭장치용 회전지그에 관한 것이다.이에 본 발명의 기술적 요지는 웻(wet) 에칭 공정시 마스크시트에 대하여 수직 로딩과 자전 로테이팅이 이루어지도록 하는 회전지그에 관한 것으로, 상기 마스크시트는 워킹 지그 파트로 하여금 거치(또는 현수 조립 및 인장)시 체결 조립이 용이하도록 하되, 자전 회전과 수직 이송시에는 로테이팅 지그 파트로 하여금 정밀하고 안정적인 회전 로테이팅과 단계별 무빙 로딩이 이루어질 수 있도록 하는 바, 이는 마스크시트에 대한 종전 수평식 에칭방식 대비 불량을 극최소화(박판형 대면적 시트의 웨이브 발생, 들뜸현상, 스팩 변화, 틀어짐, 쉐도우 현상, 얼룩발생 등을 원천방지)하도록 함은 물론 높은 생산성과 향상된 작업성 및 우수한 품질이 보장될 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.