Producing Method of Electroforming Mother Plate for High Resolution Fine Metal Mask

The present invention relates to a method for manufacturing an electro-forming mother plate to produce a high resolution fine metal mask, which enables an organic material to easily and definitely pass into an opened region of a fine metal mask so as to be uniformly deposited on a glass having a TFT. To solve the subject, the method for manufacturing an electro-forming mother plate to produce a high resolution fine metal mask according to the present invention includes: a photosensitive film forming step of forming a photosensitive film with a predetermined thickness on a conductive substrate; an optical mask installation step of installing an optical mask having a predetermined pattern on the photosensitive film; an exposure processing step of installing the conductive substrate in an exposure device, then controlling the exposure device to irradiate the optical mask with light and removing the optical mask to produce an exposure-processed pattern mold; and a developing step of injecting a developing solution to the pattern mold by using a developing device, and removing the exposure-processed portion therethrough to form a fine pattern hole so as to produce the electro-forming mother plate. In the developing step, the installation angles of the pattern mold and the developing device are concurrently adjusted such that time during which the developing solution remains in the pattern mold and the angle at which the developing solution is intruded are adjusted. 본 발명은 파인 메탈 마스크의 개방된 영역으로 유기물이 쉽고 정확하게 통과하여 TFT가 형성된 글래스상에 균일하게 증착될 수 있는 고해상도 파인 메탈 마스크 제조를 위한 전주도금 모판의 제조방법에 관한 것이다. 상기의 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 고해상도 파인 메탈 마스크 제조를 위한 전주도금 모판의 제조방법은, 전도성 기판 위에 소정 두께의 감광막을 형성하는 감광막 형성 단계; 상기 감광막 위에 소정 패턴을 가지는 광마스크를 설치하는 광마스크 설치 단계; 상기 전도성 기판을 노광기에 설치한 다음, 상기 노광기를 제어하여 상기 광마스크에 빛을 조사하고, 상기 광마스크를 제거하여 노광처리된 패턴몰드를 제조하는 노광처리 단계; 및 상기 패턴몰드를 현상기를 이용하여 현상액을 분사하고, 이를 통해 노광 처리된 부분을 제거하여 미세 패턴홀을 형성시켜 전주도금 모판을 제조하는 현상 단계를 포함하고, 상기 현상 단계에서는, 상기 패턴몰드와 상기 현상기의 설치 각도를 동시에 조절하여 상기 현상액이 상기 패턴몰드에 잔존하는 시간과 현상액이 침투되는 각도를 조절하는 것을 특징으로 한다.