hidden A process for the production of the hidden pattern printed material and its product

본 발명은 거울, 유리, 플라스틱, 필름, 스티커, 라벨 등을 포함한 제품에 로고, 문자,패턴 등의 이미지를 온도차이에 의해 일정시간 나타났다 사라지게 하는 제조방법과 이를 이용해 형성된 기재에 관한 것이다. 본 발명은 피도착면에 대한 전처리 단계(S1)와, 피도착면에 대한 특정 패턴 인쇄하는 패턴인쇄단계(S2)와, 상기 패턴인쇄된 피도착면에 히든층, 증기흡착층, 발수층을 형성하는 멀티 코팅 단계(S3)와, 멀티코팅 처리된 피도착면에 대한 세정검수포장처리하는 단계(S4)을 포함하여 이루어진 히든 패턴이 있는 기재의 제조 방법을 개발하였다. 더나아가서 본 발명은 피도착면에 대한 전처리 단계(S1)와, 세정된 피도착면에 대하여 피도착면에 대하여 산화티타늄을 증착 코팅하는 히든층을 형성하는 히든층 형성단계(S2)와, 상기 히든층에 대하여 레이저 조사에 의하여 패턴형성부를 식각처리하는 패턴이미지 식각 처리후, 증기흡착성과 발수성을 부여하는 멀티 코팅 단계(S3)와, 멀티코팅 처리된 피도착면에 대한 세정 검수 포장처리하는 단계(S4)를 포함하여 이루어진 히든 패턴이 있는 기재의 제조 방법으로 다품종 소량 양산시의 방법도 함께 개발된 것이다. 본 발명에 의하여 불량율의 획기적 감소는 물론 대량 양산에서 부터 다품종 소량 양산이 가능하여 다양한 소비자의 요구에 부응할 수 있게 되었다.