METHOD AND APPARATUS FOR CAD BASED INDUSTRIAL PLANT AND SEMICONDUCTOR FACILITY DESIGN

Disclosed are a method and an apparatus for designing an industrial plant and a semiconductor facility. According to an embodiment of the present invention, the apparatus for designing an industrial plant and a semiconductor facility identifies a type of a design target based on target information t...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: SEO, JEONG HOON
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:Disclosed are a method and an apparatus for designing an industrial plant and a semiconductor facility. According to an embodiment of the present invention, the apparatus for designing an industrial plant and a semiconductor facility identifies a type of a design target based on target information to be designed, acquires a structure design condition, a machine design condition, and a control design condition corresponding to the design target, checks a database matching design targets, structure design conditions, machine design conditions, control design conditions, and elements to acquire second elements corresponding to the structure design condition, the machine design condition, and the control design condition, generates position information of the second elements, connection information of connection relations between the second elements, and operation information of operation processes of the second elements based on design information optimized in accordance with a history of the design targets, the structure design conditions, the machine design conditions, and the control design conditions, generates a three dimensional model of an industrial plant or a semiconductor facility modeling the design target based on the position information, the connection information, and the operation information, and applies control signals corresponding to the structure design condition, the machine design condition, and the control design condition to the three dimensional model to test the three dimensional model. 산업용 플랜트 및 반도체 설비 설계 방법 및 장치가 개시된다. 일실시예에 따른 산업용 플랜트 및 반도체 설비 설계 장치는 설계하고자 하는 대상 정보에 기초하여, 설계 대상의 유형을 식별하고, 설계 대상에 대응하는 구조 설계 조건, 기계 설계 조건 및 제어 설계 조건을 획득하고, 설계 대상들, 구조 설계 조건들, 기계 설계 조건들, 제어 설계 조건들 및 엘리먼트들을 매칭시킨 데이터베이스를 조회하여, 구조 설계 조건, 기계 설계 조건 및 제어 설계 조건에 대응하는 제2 엘리먼트들을 획득하고, 설계 대상들, 구조 설계 조건들, 기계 설계 조건들 및 제어 설계 조건들의 히스토리에 따라 최적화된 설계 정보에 기초하여, 제2 엘리먼트들의 위치들의 위치 정보, 제2 엘리먼트들 사이의 연결 관계들의 연결 정보 및 제2 엘리먼트들의 동작 프로세스들의 동작 정보를 생성하고, 위치 정보, 연결 정보 및 동작 정보에 기초하여 설계 대상을 3D 모델링한 산업용 플랜트 또는 반도체 설비의 3D 모델을 생성하고, 구조 설계 조건, 기계 설계 조건 및 제어 설계 조건에 대응하는 제어 신호들을 3D 모델에 적용하여, 3D 모델을 테스트할 수 있다.