Batch reactor for composing BDEAS used for manufacturing semiconductor

As disclosed batch-type reactor for composing bis(diethylamino)silane (BDEAS) used for manufacturing a semiconductor comprises a reactor body, a cooling jacket, and a plurality of raw material inlet pipes, it is possible to minimize the occurrence of the bubbling phenomenon caused by the formation of a single number of dichlorosilane inlet pipes in a conventional gas phase and the occurrence of a rapid exothermic reaction in an inlet portion of the gas phase dichlorosilane inlet pipe can be minimized, and to improve the yield of the BDEAS, and as the material re-liquefied in a cooler can be introduced into a receiving tank, it is possible to prevent the re-liquefied material from arbitrarily introduced into the reactor body along a cooler incinerating pipe and falling in a liquid state, and thus the yield of a BDEAS reaction is improved. 개시되는 반도체 제조에 사용되는 비디아스 합성용 배치식 반응기가 반응기 본체, 냉각 자켓 및 복수 개의 원료 유입 배관을 포함함에 따라, 종래 기상의 디클로로실란 유입 배관이 단수 개 형성됨에 따라 발생되던 버블링 현상 및 기상의 디클로로실란 유입 배관의 투입구 부분에서의 급격한 발열 반응 발생이 최소화될 수 있고, 비디아스 수율이 향상될 수 있게 되고, 냉각기에서 재액화된 물질이 수용 탱크 내부로 유입될 수 있어서 그 재액화된 물질이 냉각기향 배관을 따라 다시 반응기 본체 내부로 임의 유입되어 액상 상태로 낙하되는 현상이 방지될 수 있게 되고, 그에 따라 비디아스 반응 수율이 향상될 수 있게 되는 장점이 있다.