Photoluminescence Intensity Mapping Instrument using Central Wavelength Tracking

The present invention relates to a photoluminescence intensity mapping apparatus which can track the central wavelength of each area when areas with different photoluminescence wavelength bands are generated on a sample such as a wafer. The photoluminescence intensity mapping apparatus includes: multiple laser light sources with different wavelengths; an incident optical system including lenses and mirrors adjusting the path of laser beams from selected ones of multiple light sources to let the laser beams enter the sample; a multi-shaft driving unit sample stage assembly moving the sample to let the incident light from the incident optical system be on the surface of the sample; a reflection optical system which includes a lens, a mirror, and a filter to let the photoluminescence emitted from the sample pass there-through while blocking the incident light reflected from the sample; and a spectroscope unit including a dual detection connection port structure which measures the photoluminescence passing through the reflection optical system. 본 발명은 웨이퍼 등 시료상에 광루미네선스 파장대역이 서로 다른 영역이 생성되었을 때 각 영역별로 중심파장 추적이 가능한 광루미네선스 강도(intensity) 매핑장치에 관한 것으로, 상기 장치는, 서로 다른 파장을 가지는 복수 개의 레이저 광원; 상기 복수 개의 광원 중 선택된 레이저 광의 경로를 조절하여 시료로 입사하도록 하는 렌즈(lens) 및 거울(mirror)을 포함하는 입사 광학계; 상기 입사 광학계로부터 입사한 입사광이 상기 시료 표면을 주사할 수 있도록 시료를 이동시키는, 다축 구동부 시료 스테이지 어셈블리; 상기 시료에서 발광된 광루미네선스(Photoluminescence)를 통과시키고 상기 시료로부터 반사된 입사광을 차단시키는 렌즈, 거울 및 필터(filter)를 포함하는 반사광학계; 및 상기 반사광학계를 통과한 상기 광루미네선스를 측정하는, 검출기 연결부(port)를 이중(dual)으로 구비하는 분광기를 포함한다.