RINSING AND DRYING DEVICE

The present invention relates to a spin type rinsing and drying device. The spin type rinsing and drying device comprises: a casing having a processing space therein; a substrate holding unit rotatably provided into the casing wherein a substrate is placed on the substrate holding unit; a gas guide unit configured to guide a gas toward a surface of the substrate to form a gas flow field on an upper side of the substrate; and a vortex suppressing unit provided into a lower portion of the substrate and configured to suppress vortex generation caused by inputting the gas flow field into the lower portion of the substrate, thereby preventing an abnormal gas flow in the casing and preventing secondary contamination of the substrate due to the abnormal gas flow. 본 발명은 스핀식 헹굼 건조 장치에 관한 것으로, 스핀식 헹굼 건조 장치는, 내부에 처리 공간을 갖는 케이싱과, 케이싱의 내부에 회전 가능하게 제공되며 기판이 안착되는 기판거치부와, 기판의 표면을 향해 기체를 안내하여 기판의 상측에 기체유동장(gas flow field)을 형성하는 기체안내부, 기판의 하부에 제공되며 기체유동장이 기판의 하부로 유입됨에 따른 와류(vortex) 발생을 억제하는 와류억제부를 포함하여, 케이싱 내부에서의 비정상적 기체 유동을 방지하고, 비정상적 기체 유동에 의한 기판의 2차 오염을 방지할 수 있다.