METHOD FOR MEASURING THICKNESS OF THIN FILM

The present invention relates to a method of measuring a thickness of a thin film. The method of measuring a thickness of a thin film comprises: a reflectance acquisition step, a refractive index assuming step, a conversion step, an error checking step, a phase extraction step, a phase restoring ste...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KIM, KWANG RAK, KWON, SOON YANG, PAHK, HEUI JAE
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a method of measuring a thickness of a thin film. The method of measuring a thickness of a thin film comprises: a reflectance acquisition step, a refractive index assuming step, a conversion step, an error checking step, a phase extraction step, a phase restoring step, and a thickness calculation step. The reflectance acquisition step acquires a light intensity signal of a thin film, and acquires reflectance for the thin film by the light intensity signal. The refractive index assuming step assumes a refractive index of air and a refractive index of the thin film in real numbers, and a refractive index of a substrate on which the thin film is formed in a complex number. The conversion step converts the reflectance into normal reflectance. The error checking step checks whether a first difference value between a maximum value of the normal reflectance converted in the conversion step and a first reference value or a second difference value between a minimum value of the normal reflectance converted in the conversion step and a second reference value is within a predetermined error range. The phase extraction step extracts a phase if the first difference value or the second difference value is within the error range. The phase restoring step restores the phase extracted in the phase extraction step. The thickness calculation step calculates a thickness of the thin film from the phase restored in the phase restoring step. 본 발명은 박막의 두께 측정방법에 관한 것으로서, 반사도 획득단계와, 굴절률 가정단계와, 변환단계와, 오차 확인단계와, 위상 추출단계와, 위상 복원단계와, 두께 계산단계를 포함한다. 반사도 획득단계는 박막의 광강도 신호를 획득하고, 광강도 신호를 통해 박막에 대한 반사도를 획득한다. 굴절률 가정단계는 공기의 굴절률 및 박막의 굴절률은 실수로, 박막이 형성된 기판의 굴절률은 복소수로 가정한다. 변환단계는 반사도를 정규반사도로 변환한다. 오차 확인단계는 변환단계에서 변환된 정규반사도의 최대값과 제1기준값의 차이인 제1차이값 또는 변환단계에서 변환된 정규반사도의 최소값과 제2기준값의 차이인 제2차이값이 미리 정해진 오차범위 이내인지 확인한다. 위상 추출단계는 제1차이값 또는 제2차이값이 오차범위 이내인 경우, 위상을 추출한다. 위상 복원단계는 위상 추출단계에서 추출된 위상을 복원한다. 두께 계산단계는 위상 복원단계에서 복원된 위상으로부터 박막의 두께를 계산한다.