WAFER EDGE EXPOSURE APPARATUS

Disclosed is a wafer edge exposure device. The device includes: a light source unit forming multiple light sources; and a refracting unit collecting light of the light sources. The refracting unit includes: a tube forming a passage through which the light of the light sources passes; and first, second, and third lenses which are placed in the passage of the tube and sequentially refracting the light. The first and second lenses are convex, and the third lens is concave. According to the present invention, a wafer edge exposure device capable of improving the productivity of an exposure process and forming an exposure surface with constant uniformity by radiating the light of the light sources to a wafer edge at uniform radiation intensity and incident angle. 웨이퍼 에지 노광 장치가 개시된다. 본 발명의 웨이퍼 에지 노광 장치는, 다수의 광원이 형성되는 광원유닛 및 광원의 빛을 집광시키는 굴절유닛을 포함하고, 굴절유닛은, 광원의 빛이 통과되는 통로를 형성하는 경통; 및 경통의 통로 상에 구비되고, 광원의 빛을 순차적으로 굴절시키는 제1 렌즈, 제2 렌즈 및 제3 렌즈를 포함하며, 제1 렌즈 및 제2 렌즈는 볼록렌즈로 이루어지고, 제3 렌즈는 오목렌즈로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 다수의 광원의 빛이 웨이퍼 에지에 균일한 광량 및 입사각으로 조사되어, 균일도가 일정한 노광면을 형성하며, 노광공정의 생산성이 향상되도록 이루어지는 웨이퍼 에지 노광 장치를 제공할 수 있게 된다.