METHOD FOR ARRANGING MICROLENS ARRAY AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT HAVING IMPROVED PERFORMANCE BY USING THEREOF

The present invention relates to an apparatus to measure a wavefront for measuring wavefront distortion of light. According to the present invention, a microlens having a short focus distance is used despite the loss of a measurement accuracy when a wide wavefront measurement range is required due to the inverse proportion between the measurement accuracy and the wavefront measurement range whereas the microlens having a long focus distance and having a narrow wavefront measurement range is used when the high measurement accuracy is required. Further, as a space resolution is determined by the number of the microlens constructing a microlens array, the problem in using the existing wavefront measuring devices is that the space resolution is lower compared to the existing laser interferometers. To solve the problem, according to the present invention, the method to construct a microlens array having a new structure to increase the space resolution of the apparatus to measure the wavefront and an apparatus to measure a wavefront using the same without necessity of consideration of mutual compromise generated in the inverse proportion between the measurement accuracy and the wavefront measurement range by simultaneously obtaining a high measurement accuracy and a wide measurement range. 본 발명은 빛의 파면 왜곡을 측정하기 위한 파면측정기에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 측정 정밀도와 파면측정 범위가 반비례함으로 인해 넓은 파면 측정범위가 요구되는 경우에는 측정 정밀도의 손실을 감수하면서 짧은 초점거리의 미소렌즈를 사용해야 하고, 높은 측정 정밀도가 요구되는 경우에는 파면 측정범위가 좁아지는 긴 초점거리의 미소렌즈를 사용해야 하는 한계가 있는 데 더하여, 미소렌즈 배열을 구성하는 미소렌즈의 개수에 의해 공간해상도가 결정됨으로 인해 기존의 레이저 간섭계에 비해 공간해상도가 매우 낮은 단점을 가지는 종래기술의 파면측정기들의 문제점을 해결하기 위해, 높은 측정 정밀도와 넓은 측정범위를 동시에 확보하여 측정 정밀도와 측정범위 사이의 반비례 관계에서 발생하는 상호 절충에 대한 고려가 필요 없는 동시에, 파면측정기의 공간해상도를 높일 수 있도록 구성되는 새로운 구조의 미소렌즈 배열의 구성방법 및 이를 이용하여 성능이 향상된 파면측정기가 제공된다.