APPARATUS FOR ANALYZING SUBSTRATE CONTAMINATION AND METHOD FOR ANALYZING WAFER CONTAMINATION USING THE SAME

An apparatus for analyzing a substrate contaminant includes: a substrate transfer unit which transfers a substrate in the apparatus for analyzing a substrate contaminant; a vapor phase analysis unit which performs a process of etching an oxide film of the transferred substrate or a surface of the substrate; a substrate scanning unit which uses a substrate scan nozzle having a structure in which three flow paths are formed by three nozzle units being arranged to be inserted into the substrate scan nozzle to scan and collect a pollutant existing on the surface of the substrate or below the surface of the substrate; a washing unit which receives and washes the substrate where the pollutant has been scanned and collected; and an analysis unit which analyzes the pollutant from a scanning solution collected by the substrate scanning unit. 기판 오염물 분석 장치는 기판 오염물 분석 장치에서 기판을 이송하는 기판 이송 유닛과 이송된 기판의 산화막 또는 기판 표면을 식각하는 공정을 수행하는 기상분해 유닛과, 3개의 노즐부가 삽입 배치됨으로서 3개의 유로가 형성되는 구조를 갖는 기판 스캔 노즐을 이용하여 기판의 표면 또는 그 아래에 존재하는 오염물을 스캔 및 포집하는 기판 스캐닝 유닛과 오염물 스캔 및 포집이 이루어진 기판을 도입 받아 세정하는 세정유닛 및 상기 기판 스캐닝 유닛에 의해 포집된 스캐닝 용액으로부터 오염물을 분석하기 위해 분석 유닛을 포함하는 구조를 갖는다.