METHOD OF MANUFACTURING A CONTACT PLUG

본 발명은 공정이 간단하게 구성되면서도 그 공정의 순수도가 유지될 수 있고, 원가 절감 및 관리 측면에서도 유리하도록 한 콘택플러그를 형성하기 위한 내열금속 에치백 공정에 관한 것으로, 하부에 형성된 제1전도층의 일부영역을 개방시키는 콘택홀에 가득 채워짐과 아울러 그 콘택홀의 주위에 형성된 층간절연층 위에 소정의 두께로 증착된 내열금속(Refractory metal)을 마스크 없이 식각하여 그 내열금속이 상기 콘택홀의 내부에만 남도록 하는 내열금속 플러그 형성공정에 있어서, 상기내열금속을 마스크 없이 식각하는 공정이 SF가스를 공정가스로 사용하는 헬리콘 식각 시스템(HELICON ETCH SYSTEM)에서 이루어지는 것을 특징으로 한다. 따라서 상기와 같은 본발명은 내열금속에 대한 에치백공정이 3단계로 구성된 종래 기술에 비해서 공정이 단순하게 되는 효과와 함께 공정가스의 종류가 적어 순수도가 향상되는 효과와, 식각균일도도 약 3% 정도가 되는 효과가 발생한다.