AIR FLOW GUIDING APPARATUS OF WAFER LOADING CHAMBER IN CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM

고청정 상태로 송풍되어 유입되는 공기의 흐름이 웨이퍼가 위차한 보트쪽으로 이루어지도록 공기가 유입되는 부분을 개선시킨 화학기상증착설비의 웨이퍼 로딩실의 공기흐름안내장치에 관한 것이다. 본 발명은, 화학기상증착을 위한 반응실에 보트를 통하여 로딩되는 웨이퍼의 청정유지를 위하여 웨이퍼로딩실 내부로 청정 공기류를 제공하기 위한 송풍부에 있어서, 상기 송풍부의 내벽에 공기흐름을 일정방향으로 안내하기 위한 안내수단이 설치되어 이루어진다. 따라서, 저압화학기상증착 설비의 웨이퍼로딩실에서의 기류가 원활히 안내되고 와류가 형성되지 않아서 공기의 풍속이 적정 수준으로 유지되므로, 웨이퍼로딩실내의 파티클 수가 격감되어 웨이퍼의 오염을 크게 줄일 수 있는 효과가 있다. An air current guiding apparatus includes a plurality of dampers installed on a filter unit on an inner wall of air supply unit for blowing clean air over wafers loaded in a boat for transfer to a reaction chamber for chemical vapor deposition. Each of the dampers has a certain length and angular orientation to force the air in a designated direction so that the air current in a wafer loading chamber maintains an appropriate velocity and is free from air turbulence, thereby minimizing the number of contaminating particles in the wafer loading chamber.